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鍍金機(jī) 噴金機(jī)金靶材 電鏡金靶 黃金靶

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品牌: 北京中金研新材料科技有限公司
顆粒: 1-3mm
片狀: 3*3mm
粉末: 200目
單價(jià): 550.00元/克
起訂: 1 克
供貨總量: 500 克
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
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最后更新: 2020-08-28 10:22
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公司基本資料信息
 
 
產(chǎn)品詳細(xì)說明
 磁控濺射靶材

薄膜太陽能電池行業(yè),磁存儲(chǔ)行業(yè),工具行業(yè),裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材)

高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-6N):鋁靶Al,鉻靶Cr,銅靶Cu,鎳靶Ni,硅靶Si,鍺靶Ge,

鈮靶Nb,鈦鈀Ti,銦靶In,銀靶Ag,錫靶Sn,石墨靶C,鉭靶Ta,鉬靶Mo,金靶Au,

鉿靶Hf,錳靶Mn,鋯靶Zr,鎂靶Mg,鋅靶Zn,鉛靶Pb,銥靶Ir,釔靶Y,鈰靶Ce,

鑭靶La,鐿靶Yb,釓靶Gd,鉑靶Pt等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。

高密度陶瓷濺射靶材(3N-5N):ITO靶、AZO靶,IGZO靶,氧化鎂靶MgO、氧化釔靶Y2O3,

氧化鐵靶Fe2O3,氧化鎳靶Ni2O3,氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鎘靶CdS,

硫化鉬靶MoS2,二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化鋯靶ZrO2、五氧化二鈮靶Nb2O5、

二氧化鈦靶TiO2,二氧化鉿靶HfO2,二硼化鈦靶TiB2,二硼化鋯靶ZrB2,三氧化鎢靶WO3,

三氧化二鋁靶Al2O3,五氧化二鉭靶Ta2O5、氟化鎂靶MgF2、硒化鋅靶ZnSe、氮化鋁靶AlN,

氮化硅靶Si3N4,氮化硼靶BN,氮化鈦靶TiN,碳化硅靶SiC,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、

鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.

  備注:CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界最先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù),相對(duì)密度大于95-99%??梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ?wù)。

高純合金濺射靶材:鎳釩合金靶Ni-V,鎳鉻合金靶Ni-Cr,鈦鋁合金靶Ti-Al,硅鋁合金靶Si-Al,銅銦合金靶Cu-In,銅鎵合金靶Cu-Ga,銅銦鎵合金靶Cu-In –Ga,銅銦鎵硒靶Cu-In –Ga-Se,不銹鋼靶,鋅鋁合金靶Zn-Al,鎢鈦 W-Ti,鐵鈷 Fe-Co,白銅靶等高純合金濺射靶材。

  備注:CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材:晶粒度小150-60um,相對(duì)密度高(99-99.9%),純度高(99.9-99.999%)。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。

真空鍍膜材料

(鍍制:復(fù)合膜,彩色膜,增透膜,透紫外膜,氣敏傳感器膜,高溫介質(zhì)膜,光學(xué)膜,激光裝置濾光片,保護(hù)膜,透明導(dǎo)電膜,變色膜,優(yōu)良的寬帶增透膜,磁性薄膜,可見光區(qū)增透膜,紅外增透膜,分光膜,多層膜,高反射膜,電阻膜,熱反射膜,冷光膜膜)

高品質(zhì)真空鍍膜材料(4N-5N):

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,

 一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5,五氧化二鈮Nb2O5,五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3

  等高純氧化物鍍膜材料。

2.氟化物:氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2,氟化鈰CeF3,氟化鎂MgF2,氟化鑭LaF3,氟化釔YF3,

  氟化鐿YbF3,氟化鉺ErF3等高純氟化物。

3.其它化合物:硫化鋅ZnS,硒化鋅ZnSe,氮化鈦TiN,碳化硅SiC,鈦酸鑭LaTiO3,

  鈦酸鋇BaTiO3,鈦酸鍶SrTiO3,鈦酸鐠PrTiO3,硫化鎘CdS等真空鍍膜材料。

4.金屬鍍膜材料:高純鋁Al,高純銅Cu,高純鈦Ti,高純硅Si,高純金Au,高純銀Ag,

  高純銦In,高純鎂Mg,高純鋅Zn,高純鉑Pt,高純鍺Ge,高純鎳Ni,高純金Au,

  金鍺合金AuGe,金鎳合金AuNi,鎳鉻合金NiCr,鈦鋁合金TiAl,銅銦鎵合金CuInGa,

  銅銦鎵硒合金CuInGaSe,鋅鋁合金ZnAl,鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。

  備注:CNM生產(chǎn)的真空鍍膜材料均通過SGS認(rèn)證,純度高,濺點(diǎn)少,放氣量小,薄膜均勻,附著力強(qiáng),抗腐蝕性強(qiáng),顏色均勻   等優(yōu)點(diǎn)。

 

高純材料

(產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和電子行業(yè)的基礎(chǔ)材料,光學(xué),航天,原子能工業(yè),電子,光電子,太陽能電池,裝飾,合金添加劑等各類科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域)

1.高純金屬(純度:3N-8N,規(guī)格:顆粒,片狀,絲狀,塊狀,粉末狀,靶材):

高純鋁,高純銅,高純鉻,高純鈷,高純金,高純銀,高純鉑,高純鉿,高純鎢,高純鉬,

高純硅,高純鍺,高純錳,高純鎂,高純鈮,高純錫,高純鋅,高純釩,高純鐵,高純鈦

,高純鋯,高純碲,高純鎳,高純鉭,高純鎵,高純銦,高純鈀,高純錸,高純鑭,高純鐠,

高純鈰,高純釓,高純銥,高純銠,高純鋱,高純鈥,高純釔,高純鐿,高純銩,高純銪,高純鈥,

高純鋱等高純金屬材料。

2.高純氧化物(純度:3N-6N,規(guī)格:顆粒,片狀,絲狀,塊狀,粉末狀,靶材):

     一氧化硅,SiO,二氧化硅,SiO2,二氧化鉿,HfO2,二氧化鋯,ZrO2,一氧化鈦,TiO,二氧化鈦,

TiO2,三氧化二鈦,Ti2O3,五氧化三鈦,Ti3O5,五氧化二鉭,Ta2O5,五氧化二鈮,Nb2O5,

三氧化二鋁,Al2O3,三氧化二鈧,Sc2O3,三氧化二銦,In2O3,二氧化鈰,CeO2,氧化鎂,MgO,

三氧化鎢,WO3,氧化銅,CuO,氧化鐵,Fe2O3,氧化釤,Sm2O3,氧化釹,Nd2O3,氧化鑭,La2O3,

氧化釔,Y2O3,氧化鐿,Yb2O3,氧化釓,Gd2O3,氧化镥,Lu2O3,氧化鋱,Tb2O3,氧化鈥,Ho2O3,

氧化銪,Eu2O3,氧化銩,Tm2O3,氧化鉺,Er2O3,氧化鉍,Bi2O3,氧化鐠,Pr6O11,氧化銻,Sb2O3,氧化釩,V2O5,氧化鎳,NiO,氧化鋅,ZnO,氧化鉻,Cr2O3,氧化鍶,SrO等高純氧化物

3.高純氟化物(純度:3N-6N,規(guī)格:顆粒,片狀,絲狀,塊狀,粉末狀,靶材)

    氟化鏑DyF3,氟化釹NdF3,氟化鉀KF,氟化鍶SrF2,氟化鈉NaF,氟化鋇BaF2,氟化鉛PbF2,氟化鋁AlF3,氟化鈰CeF4,氟化鎂MgF2,氟化釤SmF3,氟化釹F3Nd,氟化鑭LaF3,氟化釔YF3,氟化鐿YbF3,氟化軋,氟化镥LuF3,氟化鋱TbF3,氟化銩TmF3,氟化鉺,氟化鐠等高純氟化物

4.其他化合物((純度:3N-6N,規(guī)格:顆粒,片狀,絲狀,塊狀,粉末狀,靶材):

    碳化鋯,ZrC,碳化鉿,HfC,碳化硅,SiC,碳化硼,B4C碳化鎢WC,碳化鈦,TiC,等碳化物。

硫化銅,CuS,硫化鎘,GdS,硫化鋅,ZnS,硫化鉬,MoS,硫化錫SnS,等硫化物.氮化鈦,TiN,氮化鋁,AlN,氮化硅,Si3N4,氮化硼BC,等氮化物.二硼化鋯,ZrB2二硼化鈦,TiB2,二硼化鉿,HfB2,氯氧化鋯,氯氧化鉿,四氯化鋯,四氯化鉿,硫酸氧鈦,鈦酸鋇,鈦酸鍶,鈦酸鑭,鈦酸鐠,二硅化鉬,硒化鋅,AZOIGZO,ITO等化合物.

備注:CNM高純材料采用化學(xué)精煉法,電解精煉法,電子書熔煉,區(qū)間熔煉,萃取精煉法,控制晶粒的生長形態(tài)的偏析法提純工藝,濕法提純,化學(xué)提純。材料:純度高,性能穩(wěn)定,延展性好,耐腐蝕性能優(yōu)良,放射性元素含量低,強(qiáng)度高,具有良好的加工性能。

 

 
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